- 氧氮?dú)涮剂虻仍胤治鰞x
- 光譜儀,光度計(jì),光譜分析儀
- 金相顯微制樣檢驗(yàn)分析儀
- 拉力機(jī),硬度計(jì)等材料試驗(yàn)機(jī)
- 工業(yè)顯微鏡及光學(xué)測(cè)量裝置
- 三坐標(biāo),影像儀等形貌測(cè)量?jī)x
- 熱分析儀,量熱儀
- 質(zhì)譜儀及各類聯(lián)用儀
- 行業(yè)檢測(cè)儀器
- 制樣及前處理設(shè)備
- 配件耗材及配套產(chǎn)品
電解拋光腐蝕儀簡(jiǎn)介:
電解拋光腐蝕儀是利用電化學(xué)原理進(jìn)行金相試樣制備,既可用于金相試樣拋光,也可用于金相試樣腐蝕的金相試驗(yàn)設(shè)備。
電解拋光腐蝕儀構(gòu)成:
電解拋光腐蝕儀包括直流電源部分、腐蝕器和控溫系統(tǒng)。直流電源輸出端接腐蝕器的輸入端,腐蝕器與控溫系統(tǒng)相連接。直流電源恒定輸出預(yù)設(shè)電壓和恒定輸出電流給腐蝕器,以及輸出電路中設(shè)置電流過載保護(hù)器,用于腐蝕器在工作過程中保持恒定的電壓和電流;直流電源中設(shè)有時(shí)間繼電器,用于樣品電解時(shí)間到達(dá)設(shè)定時(shí)間后,關(guān)閉電流、電壓的輸出,同時(shí)蜂鳴器提醒;腐蝕器包括電極,樣品罩,攪拌器,控溫系統(tǒng)由加熱控制單元和冷卻盤管組成。
電解拋光原理:
電解拋光原理的爭(zhēng)論很多,被公認(rèn)的主要為薄膜理論。薄膜理論解釋的電解拋光過程是:電解拋光時(shí),靠近試樣陽(yáng)極表面的電解液,在試樣上隨著表面的凸凹不平形成了一層薄厚不均勻的黏性薄膜,這種薄膜在工件的凸起處較薄,凹處較厚,此薄膜具有很高的電阻,因凸起處薄膜薄而電阻小,電流密度高而溶解快;凹處薄膜厚而電阻大,電流密度低而溶解慢,由于溶解速度的不同,凹凸不斷變化,粗糙表面逐漸被平整,*后形成光亮平滑的拋光面。
電解拋光過程的關(guān)鍵是形成穩(wěn)定的薄膜,而薄膜的穩(wěn)定與拋光材料的性質(zhì)、電解液的種類、拋光時(shí)的電壓大小和電流密度都密切相關(guān)。根據(jù)實(shí)驗(yàn)得出的電壓和電流的關(guān)系曲線稱為電解拋光特性曲線,根據(jù)它可以決定合適的電解拋光規(guī)范。
電解拋光腐蝕儀特點(diǎn):
電解拋光腐蝕儀可實(shí)現(xiàn)恒定電壓、恒定電流方式工作,可控制樣試樣的電解電流密度,能快速而有效地對(duì)金屬材料進(jìn)行電解拋光和腐蝕,具有重復(fù)性好,操作控制方便等特點(diǎn)。
電解拋光腐蝕儀操作注意事項(xiàng):
(以DPF-2型為例,鑄金儀器供應(yīng)多款電解拋光腐蝕儀,其它型號(hào)可聯(lián)系鑄金咨詢)
●儀器使用電源為 220V,10A( *大 )。
●工作過程中必須通循環(huán)水冷卻,電解液配制溫度應(yīng)符合標(biāo)準(zhǔn),以防止燃燒和爆炸。
●使用電壓超過 60V 時(shí),要注意**,應(yīng)先放好試樣,再調(diào)電壓到所需值,后進(jìn)行電解拋光,結(jié)束后將電壓調(diào)到零位再取試樣。
●拋光結(jié)束后,將電解液倒入其它容器中,用水清洗電解槽及冷卻循環(huán)系統(tǒng)。
●不能用塑料鑲嵌試樣,因?yàn)樗芰喜粚?dǎo)電容易被電解液浸蝕。極易受電解液浸蝕的金屬相和一些夾雜物也不能采用電解拋光。
●設(shè)備操作環(huán)境中不允許有易燃、易爆的氣體、液體、粉末。
●操作時(shí)精力集中,戴好口罩眼鏡等防護(hù)措施,打開排風(fēng)進(jìn)行操作。
●使用電解液要謹(jǐn)慎。如不慎將溶液濺到身上立刻用大量水沖洗;如不慎進(jìn)入眼睛里,首先用水沖洗,然后去醫(yī)院。
●使用完畢后應(yīng)及時(shí)關(guān)閉電流開關(guān)。